中国逻辑芯片达等效7nm/5nm

原文内容概括缩写：IT之家7月22日消息，据《芯势产业深谈》报道，复旦博士赵新与中芯国际联合创始人谢志峰博士就中国芯片发展展开对话。谢志峰指出，中国逻辑芯片（CPU、GPU等）当前已达到等效7nm、5nm水平，但中芯国际内部技术命名并非直接采用7nm、5nm，而是从14nm起步，后续称为N+1、N+2、N+3。他强调，从赶超视角看，只要系统性能达到等效水平，叫5nm、2nm、1.8nm并不重要，关键在于系统性能整体提升。关于国产EUV光刻机，谢志峰表示，在国产EUV成熟前，存在过渡方案：例如通过多重曝光技术（如SAQP）在现有深紫外光刻机上实现更小线宽；通过先进封装（如3D堆叠、Chiplet）将多个成熟制程芯片组合实现系统级性能提升；以及通过架构创新（如华为“韬定律”）优化芯片设计，以系统性能替代单纯依赖制程微缩。谢志峰还提到，华为“韬定律”强调通过系统级设计、软硬件协同优化来弥补制程差距，这与中芯国际的N+系列技术路线一致。他同时指出，中国半导体产业需要在设备、材料、设计工具等全链条上协同突破，但当前核心矛盾是“系统性能”而非“工艺命名”。对话中，谢志峰对国产替代前景保持谨慎乐观，认为中国在成熟制程领域已具备较强竞争力，而在先进制程上通过“曲线救国”方式仍可取得阶段性成果。