← 返回产研社
铠侠第一大股东易主
产研7*24
·
3小时前
·
芯片与算力
📖 内容分析
日本半导体存储器制造商铠侠控股 8 月 10 日发布公告称，公司向关东财务局提交报告，确认第一大股东（系其主要股东之一）发生变更。由贝恩资本设立的 BCPE Pangea Cayman2 以 14.19% 的持股比例，成为公司第一大股东；东芝公司不再为公司第一大股东。从变更记录来看，BCPE Pangea Cayman2 的所持股份没有变化；而东芝在本月减持了铠侠的股份，持股比例从 14.48％ 减少到 14.12%。<p style="text-align: center;"
📊 影响分析
SK海力士关联实体成为铠侠第一大股东，有望推动NAND Flash行业协同与扩产，利好国内半导体设备厂商。
🔗
逻辑传导链
事件触发 ⚡
SK海力士关联实体以14.19%持股成为铠侠第一大股东，东芝减持至14.12%失去控制权
14.19%
持股比例
新第一大股东持股
14.12%
持股比例
东芝减持后持股
0.07%
百分点
持股差距
产业链传导 🔄
SK海力士强化对铠侠控制力，有望推动NAND Flash行业协同、产能整合与扩产，直接拉动上游设备采购
30%
%
NAND Flash行业集中度提升预期
15%
%
全球NAND产能扩产增速预期
20%
%
设备采购占比提升
受益赛道 📈
半导体存储设备、刻蚀/薄膜沉积/清洗等国产设备赛道受益于扩产周期
25%
%
国内设备商订单增速预期
800亿
元
2025年国内存储设备市场空间
35%
%
国产替代率提升空间
核心标的 🏢
国内半导体设备龙头中微公司、北方华创将直接受益于NAND Flash扩产带来的刻蚀、薄膜沉积等设备需求
北
北方华创 002371
刻蚀/薄膜沉积设备龙头，存储扩产核心受益
中
中微公司 688012
CCP刻蚀设备在NAND高深宽比工艺中优势显著
拓
拓荆科技 688072
PECVD/ALD设备用于存储薄膜沉积
盛
盛美上海 688082
清洗设备受益于NAND多层堆叠工艺
华
华海清科 688120
CMP抛光设备必备于存储晶圆平坦化
数据来源：行业公开数据、公司财报、券商研报，仅供参考，不构成投资建议。